$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Aerosol cleaning method 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B08B-005/00
출원번호 US-0076064 (1993-06-14)
발명자 / 주소
  • Srikrishnan Kris V. (Wappingers Falls NY) Wu Jin J. (Ossining NY)
출원인 / 주소
  • International Business Machines Corporation (Armonk NY 02)
인용정보 피인용 횟수 : 28  인용 특허 : 0

초록

An aerosol cleaning apparatus for cleaning a substrate includes an aerosol producing means having a nozzle head. The nozzle head is positioned at a selected proximity and orientation to the substrate which is held by a rotatable holder. The aerosol spray dislodges particles from the substrate and th

대표청구항

A method of removing unwanted particles on a surface of a substrate used in microelectronics manufacturing, comprising the steps of: holding the substrate; rotating the substrate at a speed on the order of 500-800 rpm for applying a centrifugal force which is substantially greater than 1 g, on unwan

이 특허를 인용한 특허 (28)

  1. Narayanswami Natraj ; Wagener Thomas J. ; Siefering Kevin L. ; Cavaliere William A., Aerodynamic aerosol chamber.
  2. Fishkin Boris ; Brown Kyle A., Aerosol substrate cleaner.
  3. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  4. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
  5. Rajiv S. Agarwala ; Cynthia A. Johnson, Apparatus and method for removing a label from a surface with a chilled medium.
  6. Fishkin, Boris; Sherrard, Michael, Apparatus for cleaning and drying substrates.
  7. Yoshida, Takashi; Iwasaki, Motoaki; Yano, Tatsuro; Habaya, Kurao; Shiroma, Takahiro, Cleaning method and apparatus.
  8. Endisch, Denis H., Edge bead removal for spin-on materials containing low volatility solvents fusing carbon dioxide cleaning.
  9. Becker David Scott ; Hanestad Ronald J. ; Thomes Gregory P. ; Weygand James F. ; Zimmerman Larry D., Eliminating stiction with the use of cryogenic aerosol.
  10. Natzle Wesley Charles ; Wu Jin Jwang ; Yu Chienfan, Film removal by chemical transformation and aerosol clean.
  11. Han, Yong-Pil; Sawin, Herbert H., HF vapor phase wafer cleaning and oxide etching.
  12. Millonzi, Richard P.; Foltz, Robert S.; Petralia, Richard C.; Caccamise, Leslie W.; Hammond, Harold F.; Crump, David P.; McCumiskey, Robert E.; Williams, Edward C., Hollow cylindrical imaging member treatment process with solid carbon dioxide pellets.
  13. Yamasaka Miyako,JPX, Method for washing and drying substrates.
  14. Lee,Moon hee; Lee,Kun tack; Shim,Woo gwan; Chung,Jong ho, Method of and apparatus for removing contaminants from surface of a substrate.
  15. Kawaguchi, Mark Naoshi; Mui, David; Wilcoxson, Mark, Method of particle contaminant removal.
  16. Sinha, Nishant; Sandhu, Gurtej S., Methods for treating surfaces.
  17. Sferlazzo, Piero; Gurary, Alexander I.; Armour, Eric A.; Quinn, William E.; Ting, Steve, Movable injectors in rotating disc gas reactors.
  18. Benson, Peter A., Non-chemical, non-optical edge bead removal process.
  19. Benson, Peter A., Non-chemical, non-optical edge bead removal process.
  20. Philip G. Perry ; Rajiv S. Agarwala ; Jodie L. Morris ; Loren E. Hendrix ; Carmen W. Enos ; Gregory J. Arserio, Process for roughening a surface.
  21. Antolotti, Nelso; Scrivani, Andrea; Rizzi, Gabriele; Russo, Dario, Process for surface preparation of parts to be coated.
  22. Wagener Thomas J. ; Siefering Kevin L. ; Kunkel Pamela A. ; Weygand James F. ; Thomes Gregory P., Rotatable and translatable spray nozzle.
  23. Sun, James J.; Liu, Benjamin Y. H., Scanning deposition head for depositing particles on a wafer.
  24. Achkire, Younes; Lerner, Alexander N; Govzman, Boris; Fishkin, Boris; Sugarman, Michael N; Mavliev, Rashid A; Fang, Haoquan; Li, Shijian; Shirazi, Guy E; Tang, Jianshe, Single wafer dryer and drying methods.
  25. Sato, Masanobu; Hirae, Sadao; Yasuda, Shuichi; Morinishi, Kenya, Substrate cleaning apparatus.
  26. Watanabe, Tsukasa; Shindo, Naoki; Ohno, Hiroki; Sekiguchi, Kenji, Substrate cleaning method, substrate cleaning apparatus, control program, and computer-readable storage medium.
  27. Patrin John C. ; Heitzinger John M., Treating substrates by producing and controlling a cryogenic aerosol.
  28. Borden Michael R. ; Kosic Thomas J. ; Bowers Charles W., Wafer cleaning using a laser and carbon dioxide snow.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로