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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0076064 (1993-06-14) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 28 인용 특허 : 0 |
An aerosol cleaning apparatus for cleaning a substrate includes an aerosol producing means having a nozzle head. The nozzle head is positioned at a selected proximity and orientation to the substrate which is held by a rotatable holder. The aerosol spray dislodges particles from the substrate and th
A method of removing unwanted particles on a surface of a substrate used in microelectronics manufacturing, comprising the steps of: holding the substrate; rotating the substrate at a speed on the order of 500-800 rpm for applying a centrifugal force which is substantially greater than 1 g, on unwan
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