[특허]In-situ vapor stripping for removing volatile organic compounds from groundwater

In-situ vapor stripping for removing volatile organic compounds from groundwater 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C02F-001/20
출원번호	US-0993722 (1992-12-18)
발명자 / 주소	Gorelick Steven M. (San Carlos CA) Gvirtzman Haim (Modi\im Mobile Post ILX)
출원인 / 주소	The Board of Trustees of the Leland Stanford Junior University (Palo Alto CA 02)
인용정보	피인용 횟수 : 61 인용 특허 : 0

초록

An in-situ system for removing volatile organic compounds (VOCs) from groundwater. The technique includes gas-lift pumping and in-situ vapor stripping.

대표청구항 ▼

A system for removing volatile organic compounds (VOCs) from groundwater, comprising: a first well means extending from the ground surface into a saturated zone; a second well means extending from the ground surface into a vadose zone, said second well means coaxially spaced from said first well means along a length thereof to define an annular space between walls of said first and second wells means; means for injecting a gas into said first well means to cause groundwater to flow towards and up the first well means but not to the ground surface, and to cause VOCs to be transferred from the groundwater to a vapor within rising gas bubbles in said first well means; separation means for separating the VOC vapor from the gas bubbles, for allowing the VOC vapor to enter said second well means, and for directing the flow of groundwater from said first well means towards the saturated zone to establish a circulation path extending through the well, the vadose zone and the saturated zone for the removal of VOCs; and means for collecting the VOC vapor from said second well means.

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