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Method of and apparatus for stabilizing shapes of objects, such as optical elements, as well as exposure apparatus using 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • G21K-005/02
출원번호 US-0270794 (1994-07-05)
우선권정보 JP-0255800 (1991-09-07); JP-0023262 (1992-01-13)
발명자 / 주소
  • Niibe Masahito (Atsugi JPX) Fukuda Yasuaki (Hadano JPX) Hayashida Masami (Yokohama JPX)
출원인 / 주소
  • Canon Kabushiki Kaisha (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 33  인용 특허 : 0

초록 ▼

A temperature distribution of an object, such as an optical element, onto which radiation energy is irradiated, is measured. The change of the shape of the object is controlled by varying the temperature of a part of the object on the basis of the measured temperature distribution to stabilize the s

대표청구항 ▼

A method of stabilizing a shape of a reflective surface of a reflection-type object, comprising the steps of: measuring a temperature distribution of the reflective surface irradiated with radiation energy; and causing the temperature of a part of the reflective surface to be changed on the basis of

이 특허를 인용한 특허 (33)

  1. Kiyama Makoto,JPX, Apparatus for thermally processing semiconductor wafer.
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  2. Bevan,Edward James; Briggs,Max Michael; DiDomenico,John; Gedridge, Jr.,Robert W., Compact emissivity and temperature measuring infrared detector.
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  3. Bleidistel, Sascha; Maul, Manfred, Correction of optical elements by correction light irradiated in a flat manner.
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  4. Miyajima,Yoshikazu, Exposure apparatus and device manufacturing method.
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  5. Uehara, Yusaku, Exposure method and apparatus, and device producing method using two light beams to correct non-rotationally symmetric aberration.
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  6. Uchikawa, Kiyoshi, Exposure method and apparatus, and device production method.
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  7. Zamel James M. ; Hall Daniel F., Face-cooled high-power laser optic cell.
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  8. Hara,Shinichi, Holding mechanism in exposure apparatus, and device manufacturing method.
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  9. Hartjes, Joachim; Fiolka, Damian; Pnini-Mittler, Boaz, Liquid cooled EUV reflector.
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  10. Franken,Dominicus Jacobus Petrus Adrianus, Lithographic apparatus and device manufacturing method.
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  11. Jansen, Bastiaan Stephanus Hendricus; Loopstra, Erik Roelof; Ravensbergen, Marius; Hauf, Markus Josef, Lithographic apparatus and device manufacturing method.
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  12. Jansen, Bastiaan Stephanus Hendricus; Schönhoff, Ulrich; Hauf, Markus, Lithographic apparatus and thermal optical manipulator control method.
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  13. Jansen, Bastiaan Stephanus Hendricus; Schönhoff, Ulrich; Hauf, Markus, Lithographic apparatus and thermal optical manipulator control method.
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  14. Kiyama Makoto,JPX, Method of evaluating a semiconductor wafer.
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  15. Kiyama Makoto,JPX, Method of evaluating and thermally processing semiconductor wafer.
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  16. Kiyama Makoto,JPX, Method of thermally processing semiconductor wafer.
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  17. Masaki, Fumitaro; Miyake, Akira, Mirror device, mirror adjustment method, exposure apparatus, exposure method, and semiconductor device manufacturing method.
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  18. Neil, George R.; Shinn, Michelle D., Mirror with thermally controlled radius of curvature.
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  19. Hauf, Markus; Schoenhoff, Ulrich; Tayebati, Payam; Thier, Michael; Heil, Tilmann; Fluegge, Ole; Kazi, Arif; Sauerhoefer, Alexander; Focht, Gerhard; Weber, Jochen; Gruner, Toralf; Goehnermeier, Aksel; Hellweg, Dirk, Optical correction device.
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  20. Eva, Eric; Tayebati, Payam; Thier, Michael; Hauf, Markus; Schoenhoff, Ulrich; Fluegge, Ole; Kazi, Arif; Sauerhoefer, Alexander; Focht, Gerhard; Weber, Jochen; Gruner, Toralf, Optical element and method.
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  21. Eva, Eric; Tayebati, Payam; Thier, Michael; Hauf, Markus; Schoenhoff, Ulrich; Fluegge, Ole; Kazi, Arif; Sauerhoefer, Alexander; Focht, Gerhard; Weber, Jochen; Gruner, Toralf, Optical element and method.
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  22. Hara,Shinichi, Optical system for use in exposure apparatus and device manufacturing method using the same.
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  23. Unno Yasuyuki,JPX, Projection exposure apparatus and microdevice manufacturing method.
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  24. Bittner, Boris, Projection exposure apparatus with optimized adjustment possibility.
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  25. Chiba Yuji,JPX ; Tsukamoto Masami,JPX, Radiation reduction exposure apparatus and method of manufacturing semiconductor device.
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  26. Ebinuma Ryuichi,JPX ; Watanabe Yutaka,JPX, Reflecting system.
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  27. Miyajima,Yoshikazu, Reflection mirror apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method.
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  28. Katsuhiko Murakami JP; Tokio Kato JP; Kuninori Shinada JP, Reflective mirror for soft x-ray exposure apparatus.
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  29. Bleidistel, Sascha; Conradi, Olaf; Kazi, Arif, Semiconductor microlithography projection exposure apparatus.
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  30. David P. Stumbo, System and method to control temperature of an article.
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  31. Schoeppach, Armin; Laufer, Timo, Temperature-control device for an optical assembly.
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  32. Hiroyuki Kondo JP; Noriaki Kandaka JP, X-ray apparatus.
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  33. Hara, Shinichi; Tsukamoto, Masami, X-ray projection exposure apparatus and a device manufacturing method.
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