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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0912477 (1992-07-13) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 13 인용 특허 : 0 |
A negative ion source is disclosed wherein an electron beam produced in one chamber is used to sustain a discharge in another chamber whose conditions are independently adjusted for optimum production of vibrationally excited hydrogen molecules. By including a provision for an independently controll
In negative ion generation, a method for generating a negative hydrogen ion beam comprising the steps of: directing an electron beam at low energy along an axial flow path toward a first chamber for interaction with hydrogen gas therein; accelerating said low enemy electron beam to high energies suf
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