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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0051556 (1993-04-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 28 인용 특허 : 0 |
A process is disclosed to synthesize fullerenes in a plasma reactor. It comprises introducing various amounts of carbon halides as the plasma forming gas in a plasma torch capable of producing a high enough temperature flame to dissociate the carbon bearing molecules into carbon and halogen atoms, h
A process for the synthesis of fullerenes which comprises: a) feeding a plasma forming gas into a reactor and generating a plasma of said plasma forming gas within said reactor in the form of a plasma flame, said plasma forming gas consisting essentially of a carbon and halogen containing gas select
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