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Method of generating active semiconductor structures by means of starting structures which have a 2D charge carrier laye 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01L-029/20
  • H01L-029/78
  • H01L-029/161
  • H01L-029/205
출원번호 US-0034315 (1993-03-22)
우선권정보 DE-3914007 (1989-04-27); DE-3942125 (1989-12-20); DE-3942693 (1989-12-22)
발명자 / 주소
  • Wieck Andreas D. (Sindelfingen DEX) Ploog Klaus (Stuttgart DEX)
출원인 / 주소
  • Max-Planck-Gesellschaft zur Forderung der Wissenschaften (Gottingen DEX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 6  인용 특허 : 0

초록

A unipolar electronic component is proposed with a quasi one dimensional carrier channel which has all the characteristics of an FET. This component can be very simply produced, has “self-alignment”and linear gates with a low capacity in place of planar gates. In this way a very high operating frequ

대표청구항

Field effect transistor manufactured from a semiconducting starting structure comprising a surface and a quasi two dimensional charge carrier layer which is substantially parallel to said surface, which has a thickness and which has charge carriers with a wavelength, said field effect transistor com

이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. Bernstein, Kerry; Nowak, Edward J.; Rainey, BethAnn, FinFET transistor and circuit.
  2. Bernstein,Kerry; Nowak,Edward J.; Rainey,BethAnn, FinFET transistor and circuit.
  3. Bernstein,Kerry; Nowak,Edward J.; Rainey,BethAnn, FinFET transistor and circuit.
  4. Lim, Geun-Bae; Park, Chin-Sung; Cho, Yoon-Kyoung; Kim, Sun-Hee, Methods of making a molecular detection chip having a metal oxide silicon field effect transistor on sidewalls of a micro-fluid channel.
  5. Song,Amin; Omling,P?r, Nanoelectronic devices and circuits.
  6. Shields, Andrew James, Semiconductor device.
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