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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0434986 (1989-11-09) |
발명자 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 13 인용 특허 : 0 |
Described herein is a method and apparatus for continuously growing single crystal whiskers of silicon carbide, silicon nitride, boron carbide and boron nitride by the VLS process under controlled reaction conditions. A growth substrate such as a plate of solid graphite is coated with a suitable VLS
In the VLS process for growing crystalline whiskers of silicon carbide or silicon nitride on a growth substrate coated with a VLS catalyst, wherein silicon monoxide and an anionic feed gas selected from the group consisting of gaseous light hydrocarbons and ammonia are reacted under VLS growth condi
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