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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0062611 (1993-05-18) |
우선권정보 | JP-0152808 (1992-05-20); JP-0154337 (1992-05-21) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 113 인용 특허 : 0 |
A thermal processing station is provided with a first conveyor that conveys a wafer from a first conveyor access portion and a second conveyor that conveys another wafer from a second conveyor access opening portion. The wafer conveyed from the first conveyor is conveyed along a route consisting of
A conveyor apparatus comprising: a first conveyor access structure defining a first temporary storage location for an object to be processed; a first mounting chamber connected to said first conveyor access structure; a thermal processing structure defining a thermal processing storage location for
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