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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0151274 (1993-11-12) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 62 인용 특허 : 0 |
A method for fabricating a periodic dielectric structure which exhibits a photonic band gap. Alignment holes are formed in a wafer of dielectric material having a given crystal orientation. A planar layer of elongate rods is then formed in a section of the wafer. The formation of the rods includes t
A periodic dielectric structure which exhibits a photonic band gap comprising, in combination: a plurality of dielectric rods arranged in a matrix of a material having a different and contrasting refractive index, a number of said rods being arranged to form a planar layer, and a plurality of layers
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