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Gas-scrubber apparatus for the chemical conversion of toxic gaseous compounds into non-hazardous inert solids

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B01J-008/02
  • B01J-008/04
출원번호 US-0250422 (1994-05-27)
발명자 / 주소
  • Tarancon Gregorio (High Springs FL)
출원인 / 주소
  • Florida Scientific Laboratories Inc. (High Springs FL 02)
인용정보 피인용 횟수 : 16  인용 특허 : 0

초록

A gas-scrubber apparatus, including a chamber having an inlet means for receiving polluted gases to be scrubbed and having outlet means through which scrubbed gases are discharged, and heating elements for heating the chamber to maintain the polluted gases at predetermined temperature levels between

대표청구항

A gas-scrubber apparatus, comprising: a ) a chamber having an inlet means for receiving polluted gases to be scrubbed and having outlet means through which scrubbed gases are discharged; b) means for heating said chamber to maintain said polluted gases at predetermined temperature levels between sai

이 특허를 인용한 특허 (16)

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  2. Holst Mark ; Carpenter Kent ; Lane Scott ; Arya Prakash V., Effluent gas stream treatment system having utility for oxidation treatment of semiconductor manufacturing effluent gases.
  3. Holst, Mark; Carpenter, Kent; Lane, Scott; Arya, Prakash V., Effluent gas stream treatment system having utility for oxidation treatment of semiconductor manufacturing effluent gases.
  4. Holst,Mark; Carpenter,Kent; Lane,Scott; Arya,Prakash V., Effluent gas stream treatment system having utility for oxidation treatment of semiconductor manufacturing effluent gases.
  5. Jose L. Arno ; Robert M. Vermeulen, Fluorine abatement using steam injection in oxidation treatment of semiconductor manufacturing effluent gases.
  6. Minola, Paolo, Gas diffusion system and method for introducing a gas stream in an apparatus, in particular a passivating gas stream in a urea plant.
  7. Strmen, Jan, Gas scrubbing device for odorizing equipment operation, service and emergency.
  8. Gupta,Ramesh; Koros,Robert; Hemrajani,Ramesh R., Jet mixing of process fluids in fixed bed reactor.
  9. Brothier, Meryl; Moulinier, Dominique; Rodriguez, Philippe; Ablitzer, Carine, Jet spouted bed type reactor device having a specific profile for CVD.
  10. Benje,Michael, Method of producing ethylene (di) chloride (EDC).
  11. Clark, Daniel O.; Raoux, Sebastien; Vermeulen, Robert M.; Crawford, Shaun W., Methods and apparatus for sensing characteristics of the contents of a process abatement reactor.
  12. Takayuki Ishibashi JP; Shinsuke Nakagawa JP, NF3 treating process.
  13. Gates, Kraig R, Natural gas reclaimer device.
  14. Ronald E. Gregg, Reactive waste deactivation facility and method.
  15. Chiu, Ho-Man Rodney; Clark, Daniel O.; Crawford, Shaun W.; Jung, Jay J.; Todd, Leonard B.; Vermeulen, Robbert, Reactor design to reduce particle deposition during process abatement.
  16. Su,Shi; Beath,Andrew Charles; Mallett,Clifford William, System for catalytic combustion.
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