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Electrostatic discharge control during jet spray 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B24C-001/00
출원번호 US-0952126 (1992-09-28)
발명자 / 주소
  • Krone-Schmidt Wilfried (Fullerton CA) Di Milia Edward S. (Gardena CA) Slattery Michael J. (Gardena CA)
출원인 / 주소
  • Hughes Aircraft Company (Los Angeles CA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 31  인용 특허 : 0

초록 ▼

An improved apparatus and method adapted for use in removing trace contaminants from the surface of a chosen substrate, such as delicate surfaces or precision parts, by application of a stream or jet spray of expanded fluid to the substrate surface. The improvement consists of controlling electrosta

대표청구항 ▼

An apparatus adapted for use in removing contaminants from the surface of a substrate by application of a stream of expanded fluid to said substrate surface wherein said application of said stream of expanded fluid to said substrate surface generates electrostatic charges on or near said substrate s

이 특허를 인용한 특허 (31)

  1. Rose Peter H. ; Sferlazzo Piero ; van der Heide Robert G., Aerosol surface processing.
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  2. Kosic Thomas J., Apparatus and method for cleaning large glass plates using linear arrays of carbon dioxide (CO.sub.2) jet spray nozzles.
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  3. Pizzimenti Stephen ; McClung Mark T., Apparatus and method for generating a pressurized fluid stream having abrasive particles.
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  4. Bowers, Charles W.; Varghese, Ivin; Balooch, Mehdi, CO2 nozzles.
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  5. Bowers, Charles W.; Varghese, Ivin; Balooch, Mehdi, CO2 nozzles.
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  6. Goenka Lakhi N. (Ann Arbor MI), CO2 nozzle and method for cleaning pressure-sensitive surfaces.
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  7. Luo Jih-Shiuan (Sam), Capacitor coupled chuck for carbon dioxide snow cleaning system.
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  8. Jackson,David P., Dense fluid spray cleaning process and apparatus.
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  9. Eliasson, Bertil; Hallberg, Per-Åke; Carlsson, Lennart; Engman, Fredrik, Device and use in connection with measure for combating.
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  10. Bowers Charles W., Electrostatic discharge protection of static sensitive devices cleaned with carbon dioxide spray.
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  11. Matossian Jesse N. ; Williams John D. ; Krone-Schmidt Wilfried, Heat treatment by plasma electron heating and solid/gas jet cooling.
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  12. Shindo Naoki,JPX ; Yamasaka Miyako,JPX ; Kamikawa Yuji,JPX, Liquid treatment method and apparatus.
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  13. Shindo Naoki,JPX ; Yamasaka Miyako,JPX ; Kamikawa Yuji,JPX, Liquid treatment method and apparatus.
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  14. Banerjee, Souvik; Chung, Harlan Forrest, Liquid-assisted cryogenic cleaning.
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  15. Banerjee,Souvik; Chung,Harlan Forrest, Liquid-assisted cryogenic cleaning.
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  16. Jon Min-Chung (Princeton Junction NJ) Nicholl Hugh (Berthoud CO) Read Peter Hartpence (Morrisville PA), Method and apparatus for CO2 cleaning with mitigated ESD.
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  17. Jackson, David P., Method and apparatus for creating an open cell micro-environment for treating a substrate with an impingement spray.
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  18. Yamamoto,Ryoichi, Method and apparatus for manufacturing liquid drop ejecting head.
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  19. Unagami,Masaki, Method and assembly for static elimination of cleaning object in clearing apparatus.
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  20. Yoshida,Hideo; Sato,Nobuyoshi; Sako,Takeshi; Sone,Masato; Abe,Kentaro; Sakon,Kiyohito, Method for activating surface of base material and apparatus thereof.
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  21. Jackson, David P., Method of forming and using carbonated machining fluid.
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  22. Goenka Lakhi Nandlal, Method of mitigating electrostatic charge during cleaning of electronic circuit boards.
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  23. Jon Min-Chung ; Nicholl Hugh ; Read Peter Hartpence, Mitigation of electrostatic discharges during carbon dioxide cleaning.
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  24. Jackson,David P., Nozzle device and method for forming cryogenic composite fluid spray.
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  25. Yoon, Cheol-Nam, Nozzle for spraying sublimable solid particles entrained in gas for cleaning surface.
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  26. Yoon,Cheol Nam, Nozzle for spraying sublimable solid particles entrained in gas for cleaning surface.
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  27. Jackson, David P.; Endres, Jeffrey D., Particle-plasma ablation process.
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  28. Jackson, David P.; Endres, Jeffrey D., Particle-plasma ablation process for polymeric ophthalmic substrate surface.
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  29. Hu, Weiqin; Chen, Changxu, Substrate grinding device.
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  30. Richard I. Palmisano, System for cleaning contamination from magnetic recording media rows.
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  31. Bowers Charles W., Use of electrostatic bias to clean non-electrostatically sensitive components with a carbon dioxide spray.
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