[특허]Filter apparatus and filter element

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	B01D-029/21
출원번호	US-0117129 (1993-09-14)
우선권정보	JP-0005167 (1992-01-14)
국제출원번호	PCT/JP93/00038 (1993-01-13)
§371/§102 date	19930914 (19930914)
국제공개번호	WO-9313849 (1993-07-22)
발명자 / 주소	Yamamoto Katsutoshi (Settsu JPX) Tanaka Osamu (Settsu JPX) Inoue Osamu (Settsu JPX) Kusumi Toshio (Settsu JPX) Chaen Shinichi (Settsu JPX) Asano Jun (Settsu JPX) Uraoka Nobuki (Settsu JPX)
출원인 / 주소	Daikin Industries, Ltd. (Osaka JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 25 인용 특허 : 0

초록 ▼

A filter apparatus that is compact and that provides a large filtration area includes filter elements each constructed in cylindrical form by spirally winding a filter medium. Such medium includes a porous membrane of a polytetrafluoroethylene having a pore diameter of 0.1 to 5 m

대표청구항 ▼

A filter apparatus comprising: a support plate having opposite first and second surfaces, said support plate having a region having formed therein a plurality of apertures extending between said first and second surfaces; a plurality of longitudinal filter elements, each said filter element extending through a respective said aperture, with a first axial end of said each filter element projecting axially beyond said first surface of said support plate and with a second axial end of said each filter element projecting and extending axially beyond said second surface of said support plate, said first axial end of each said filter element being open, and said second axial end of each said filter element being sealed; a weir attached to said first surface of said support plate and surrounding said region thereof having said apertures formed therein; and an adhesive attaching said filter elements to said support plate, said adhesive being filled within said weir and over said first surface of said support plate.

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