최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0267098 (1994-06-24) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 3 인용 특허 : 0 |
An insulating film with low thermal expansion characteristics is formed by depositing aluminum alloy materials in thin film form without the use of high temperatures and which can then be oxidized to create an insulating film which has low stress. A mixture of aluminum and magnesium oxides, known as
A process of creating a low stress alloy film, said process comprising the steps of: selecting an alloy consisting of aluminum, which has positive expansion upon nitridation, and calcium, which has a negative expansion upon nitridation, said selecting step using aluminum and calcium since the positi
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.