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Gas purge unit for a portable container 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B65B-001/04
출원번호 US-0364003 (1994-12-27)
우선권정보 JP-0128850 (1992-05-21)
발명자 / 주소
  • Kawano Hitoshi (Ise JPX) Yamashita Teppei (Ise JPX) Murata Masanao (Ise JPX) Tanaka Tsuyoshi (Ise JPX) Morita Teruya (Ise JPX) Okuno Atsushi (Ise JPX) Hayashi Mitsuhiro (Ise JPX) Nakamura Akio (Ise J
출원인 / 주소
  • Shinko Electric Co., Ltd. (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 29  인용 특허 : 0

초록 ▼

A gas purge unit for a portable closed container is defined by a purge box including an opening, and a container stand around the opening on which a closed container is set; a gas supplying inlet coupled to a gas supplying source, and a gas discharging outlet; and a lifting mechanism for closing the

대표청구항 ▼

A gas purge unit for conveying semiconductor wafers comprising: a container including a container body having a flange extending about an opening of said container body, said container further including a lid adapted to extend across said opening so as to seal said container body; locking means carr

이 특허를 인용한 특허 (29)

  1. Miyajima, Toshihiko; Okabe, Tsutomu, Clean box, clean transfer method and system.
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  2. Miyajima, Toshihiko; Okabe, Tsutomu, Clean box, clean transfer method and system.
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  3. Masujima Sho,JPX ; Miyauchi Eisaku,JPX ; Miyajima Toshihiko,JPX ; Watanabe Hideaki,JPX, Clean transfer method and apparatus therefor.
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  4. Masujima Sho,JPX ; Miyauchi Eisaku,JPX ; Miyajima Toshihiko,JPX ; Watanabe Hideaki,JPX, Clean transfer method and apparatus therefor.
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  5. Kondoh, Keisuke; Tsuji, Norihiko, Connecting mechanism and connecting method of substrate container.
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  6. Boris Fishkin ; Seiji Sato ; Robert B. Lowrance, Controlled environment enclosure and mechanical interface.
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  7. Fishkin Boris (San Jose CA) Sato Seiji (Palo Alto CA) Lowrance Robert B. (Los Gatos CA), Controlled environment enclosure and mechanical interface.
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  8. Bonora Anthony C. (Menlo Park CA) Oen Joshua T. (Newark CA), Direct loadlock interface.
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  9. Miyajima, Toshihiko; Suzuki, Hitoshi; Igarashi, Hiroshi, Enclosed container lid opening/closing system and enclosed container lid opening/closing method.
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  10. Wang, Sheng-Hung; Chiu, Ming-Long, Gas filling apparatus.
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  11. Mori, Takashi; Namioka, Shinichi; Nagashima, Masaaki; Ochi, Hidetaka; Takata, Naoto; Suzuki, Masaaki; Hoshikawa, Hirotoshi; Miura, Osamu; Ito, Noriko, Grinding apparatus.
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  12. Morita Teruya,JPX ; Murata Masanao,JPX ; Kawano Hitoshi,JPX ; Tanaka Tsuyoshi,JPX ; Oyobe Hiroyuki,JPX ; Takaoka Toshiyuki,JPX, Mechanical interface apparatus.
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  13. Paul E. Lewis ; Adel George Tannous ; Karl A. Davlin, Method and apparatus for processing tool interface in a manufacturing environment.
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  14. Glenn A. Roberson, Jr. ; Robert M. Genco ; Robert B. Eglinton ; Wayland Comer ; Gregory K. Mundt, Molecular contamination control system.
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  15. Roberson ; Jr. Glenn A. ; Genco Robert M. ; Eglinton Robert B. ; Comer Wayland ; Mundt Gregory K., Molecular contamination control system.
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  16. Roberson ; Jr. Glenn A. ; Genco Robert M. ; Eglinton Robert B. ; Comer Wayland ; Mundt Gregory K., Molecular contamination control system.
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  17. Roberson ; Jr. Glenn A. ; Genco Robert M. ; Eglinton Robert B. ; Comer Wayland ; Mundt Gregory K., Molecular contamination control system.
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  18. Fosnight William J. ; Shenk Joshua W., Pod to port door retention and evacuation system.
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  19. Hardy, Kevin Richard; Cochran, Jonas Dean, Portable purge system.
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  20. Miyashita Masahiro,JPX, Positioning apparatus for substrates to be processed.
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  21. Kikuchi Hisashi,JPX ; Ishii Katsumi,JPX, Processing method and processing unit for substrate.
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  22. Miyajima,Toshihiko; Kagaya,Takeshi; Suzuki,Hitoshi; Sasaki,Mutsuo, Purging system and purging method for the interior of a portable type hermetically sealed container.
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  23. Babbs, Daniel; Fosnight, William; May, Robert C.; Weaver, William, Side opening unified pod.
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  24. Babbs, Daniel; Fosnight, William; May, Robert C.; Weaver, William, Side opening unified pod.
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  25. Iwai Hiroyuki,JPX ; Tanifuji Tamotsu,JPX ; Asano Takanobu,JPX ; Okura Ryoichi,JPX, Treatment apparatus.
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  26. Inoue, Kiyotaka; Muguruma, Terumi; Kuroda, Yuichi; Yoshikawa, Noriaki, Wafer container.
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  27. Inoue, Kiyotaka; Muguruma, Terumi; Kuroda, Yuichi; Yoshikawa, Noriaki, Wafer container.
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  28. Mikkelsen Kirk J. ; Adams Michael S. ; Bores Greg ; Wiseman Brian S., Wafer enclosure with door.
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  29. Shimizu Yuji,JPX, Wafer storing system having vessel coating with ozone-proof material and method of storing semiconductor wafer.
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