최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
---|---|
국제특허분류(IPC7판) |
|
출원번호 | US-0277688 (1994-07-20) |
발명자 / 주소 |
|
출원인 / 주소 |
|
인용정보 | 피인용 횟수 : 48 인용 특허 : 0 |
A feedback control system for providing automated control of multi-component chemical concentrations in a hydrogen peroxide/ammonia (SC-1) aqueous bath or in a hydrogen peroxide/hydrochloric (SC-2) aqueous bath used for semiconductor processing. A sample from the liquid bath is routed to two sensors
A method for monitoring concentration levels of a first chemical specie, which is hydrogen peroxide (H2O2), and a second chemical specie, which is either an acid or a base, in a multi-component aqueous bath utilized in semiconductor processing, in order to provide feedback to control an amount of sa
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.