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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0102770 (1993-08-06) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 154 인용 특허 : 0 |
A radiation treatment apparatus comprises a source of charged particles, preferably protons, for producing a particle beam, and a scattering foil for changing the diameter of the charged particle beam. The scattering foil is configured so that its thickness is both uniform and continuously adjustabl
A radiation treatment apparatus, comprising: a source of charged particles which provides a charged particle beam; and a scattering foil in the path of the particle beam, said scattering foil being comprised of a high z material which substantially changes the diameter of the particle beam without s
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