[특허]Pyroelectric thin film infrared sensor and method for fabricating the same

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IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G01J-005/02
출원번호	US-0262859 (1994-06-21)
우선권정보	KR-0011409 (1993-06-22)
발명자 / 주소	Lee Don-Hee (Kyungki KRX) Cho Sung M. (Kyungki KRX) Kim Sung T. (Seoul KRX)
출원인 / 주소	Goldstar Co., Ltd. (KRX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 12 인용 특허 : 0

초록 ▼

A pyroelectric thin film infrared sensor including a lower Pt electrode disposed on the upper surface of a substrate, a pyroelectric thin film disposed on the upper surface of lower Pt electrode such that its right portion overlaps with a predetermined region of lower Pt electrode, and an upper Cr electrode disposed over the pyroelectric thin film, The lower Pt electrode has a thickness of 150 to 400 Åwhile the substrate is comprised of an MgO single crystal substrate having (100)-oriented plane, so as to increase the C-axis orientation of the pyroelectric thin film. With such a structure, the pyroelectric thin film exhibits an improvement in infrared ray sensitivity.

대표청구항 ▼

A pyroelectric thin film infrared sensor comprising: a substrate; a lower electrode disposed on a predetermined region of an upper surface of the substrate; a pyroelectric thin film disposed on a predetermined region of an upper surface of the lower electrode; an upper electrode disposed on a predetermined region of an upper surface of the pyroelectric thin film and adapted to absorb infrared rays; a lower electrode pad disposed on another predetermined region of the upper surface of the lower electrode; and wherein the lower electrode has a thickness of 150 to 400 Å.

이 특허를 인용한 특허 (12)

Wienand, Karlheinz; Loose, Thomas; Sander, Margit, 1200° C. film resistor.
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Torii Hideo,JPX ; Kamada Takeshi,JPX ; Hayashi Shigenori,JPX ; Takayama Ryoichi,JPX ; Hirao Takashi,JPX ; Hattori Masumi,JPX, Method of manufacturing a thin film sensor element.
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Lee, Joo-ho; Park, Hae-seok; Lee, Sang-hun; Kim, Duck-hwan; Sul, Sang-chul, Resonator and fabrication method thereof.
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Wan,Chang Feng, Stepping actuator and method of manufacture therefore.
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Wan,Chang Feng, System and method of fabricating micro cavities.
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Wan,Chang Feng, System and method of fabricating micro cavities.
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Wienand, Karl-Heinz; Loose, Thomas, Temperature sensor.
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Hanson Charles M. ; Beratan Howard R., Thermal detector with inter-digitated thin film electrodes and method.
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Beratan Howard R., Thermal detector with preferentially-ordered thermally sensitive element and method.
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Beratan Howard R. ; Hanson Charles M., Thermal detector with stress-aligned thermally sensitive element and method.
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Owen Robert A. ; Hanson Charles M. ; Frank Steven N. ; Beratan Howard R. ; Summerfelt Scott R., Thermal isolation of monolithic thermal detector.
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Torii Hideo (Higashiosaka JPX) Kamada Takeshi (Nara JPX) Hayashi Shigenori (Gose JPX) Takayama Ryoichi (Suita JPX) Hirao Takashi (Moriguchi JPX) Hattori Masumi (Hirakata JPX), Thin film sensor element and method of manufacturing the same.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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