[특허]Apparatus and method for improved delivery of vaporized reactant gases to a reaction chamber

Apparatus and method for improved delivery of vaporized reactant gases to a reaction chamber 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23C-016/00
출원번호	US-0241184 (1994-05-11)
발명자 / 주소	Hillman Joseph T. (Scottsdale AZ) Ramsey W. Chuck (Chandler AZ)
출원인 / 주소	Materials Research Corporation (Orangeburg NY 02)
인용정보	피인용 횟수 : 36 인용 특허 : 0

초록 ▼

Gas delivery apparatuses and methods utilize a housing containing three thermal zones through which a gas travels from a source to a reaction chamber. Reactant gases vaporized within the first thermal zone travel in a line through the succeeding thermal zones. In each successive thermal zone, the gas is heated at a higher temperature to prevent condensation within the line. The gas line is heated in the thermal zones by mounting in-line components to heater plates which are controlled to heat the in-line components at the temperatures associated with the thermal zone. The third thermal zone is heated at a substantially higher temperature than the first and second thermal zones in order to prevent formation of an adduct within the gas line. In one embodiment, the gas line extends into the reaction chamber through a heater block which uniformly heats the gas line at a temperature higher than temperatures of the thermal zones to further prevent condensation and prevent the formation of an adduct. In an alternative embodiment, a gas passage is integrally formed within the sidewall and cover of the reaction chamber.

대표청구항 ▼

A gas delivery system for delivering reactant gas from a reactant gas source to a reaction chamber comprising: a housing having thermally-insulative walls which are separated into sections thermally isolated with respect to each other to define first, second and third thermal zones; a gas delivery line extending through the thermal zones of the housing between said gas source and said reaction chamber, said line having first, second and third sections located in said first, second and third thermal zones, respectively; a first heater coupled to the first thermal zone, the first heater operable to heat to a first temperature said first section of the gas line extending through the first thermal zone; a second heater coupled to the second thermal zone, the second heater operable to heat to a second temperature greater than said first temperature the second gas line section extending through the second thermal zone; a third heater coupled to the third thermal zone, the third heater operable to heat to a third temperature greater than said first and second temperature the third gas line section extending through said third thermal zone; the gas line extending progressively through each of the first, second and third thermal zones directly from the source to the reaction chamber without returning to a previous thermal zone, thereby maintaining the reactant gas at progressively higher temperature to effectively prevent condensation in the gas line and provide uninterrupted reactant gas flow to the reaction chamber.

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