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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0965947 (1992-10-26) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 39 인용 특허 : 0 |
A design and fabrication methodology, for silicon micromachined micro-hotplates which are manufactured using commercial CMOS foundries techniques with additional post-fabrication processing. The micro-hotplates are adaptable for a host of applications. The methodology for the fabrication of the micr
A micro-hotplate device which comprises: a support substrate; a microbridge structure formed on said support substrate, said microbridge structure having a suspended portion; a heating element formed directly on said microbridge structure so as to be thermally isolated from said support substrate; a
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