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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0265164 (1994-06-24) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 62 인용 특허 : 0 |
A method for sequentially depositing a silicon oxide based film as a barrier on a substrate. The film is useful for providing an effective barrier against gas permeability in containers and for extending shelf-life of containers, especially plastic evacuated blood collection devices.
A method of sequentially depositing a silicon oxide based film on a plastic substrate in a previously evacuated chamber by glow discharge comprising: (a) introducing a first reactive gas comprising a hydrogen silicide into a first chamber; (b) introducing a second reactive gas comprising at least on
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