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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0200982 (1994-02-24) |
우선권정보 | CH-0000681 (1993-03-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 16 인용 특허 : 0 |
Photopolymerisable compositions comprising (a) a tetraacrylate of formula I or II [Figure] (I) [Figure] (II) wherein R1 is a hydrogen atom or methyl, X1 and X2 are each independently of the other -O-or -CO-O-, R2 is a divalent aliphatic, cycloaliphatic or aromatic radical of a diglycidyl compound th
A photopolymerisable composition for use in a stereolithographic process comprising (a) 5 to 75% by weight of a tetraacrylate of formula I or II [Figure] (I) [Figure] (II) wherein R1 is a hydrogen atom or methyl, X1 and X2 are each independently of the other -O-or -CO-O-, R2 is a divalent aliphatic,
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