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Process for passivating metal surfaces to enhance the stability of gaseous hydride mixtures at low concentration in cont 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C23C-016/00
  • F26B-003/00
출원번호 US-0338230 (1994-11-09)
발명자 / 주소
  • Li Yao-En (Buffalo Grove IL) Rizos John (Frankfort IL) Kasper Gerhard (Downers Grove IL)
출원인 / 주소
  • American Air Liquide Chicago Research Center (Countryside IL 02)
인용정보 피인용 횟수 : 16  인용 특허 : 0

초록

A process for passivating a metal surface to enhance the stability of a gas mixture containing one or more gaseous hydrides in low concentration in contact therewith, which comprises: a) purging gas in contact with said metal surface with inert gas to remove the purged gas, b) exposing the metal sur

대표청구항

A process for enhancing stability of a stored gas mixture containing one or more gaseous hydrides selected from the group consisting of phosphine, arsine, and stibine, in contact with a metal surface, which comprises: a) purging a first gas in contact with said metal surface with a second inert gas

이 특허를 인용한 특허 (16)

  1. Benesch, Robert; Haouchine, Malik; Jacksier, Tracey, Articles of manufacture containing increased stability low concentration gases and methods of making and using the same.
  2. Benesch, Robert; Haouchine, Malik; Jacksier, Tracey, Articles of manufacture containing increased stability low concentration gases and methods of making and using the same.
  3. Benesch, Robert; Haouchine, Malik; Jacksier, Tracey, Articles of manufacture containing increased stability low concentration gases and methods of making and using the same.
  4. Smith, David A.; Mattzela, James B.; Silvis, Paul H.; Barone, Gary A., Chemical vapor deposition coating, article, and method.
  5. Smith, David A.; Silvis, Paul H., Chemical vapor deposition functionalization.
  6. Yuan, Min; Smith, David A.; Silvis, Paul H.; Mattzela, James B., Chemical vapor deposition process and coated article.
  7. Pelletier, Michael T., Controlled coating apparatus, systems, and methods.
  8. Behm, Philip E.; McDermott, Wayne Thomas; Xiao, Manchao; Pearlstein, Ronald Martin; Lo, Sai-Hong A.; Derecskei-Kovacs, Agnes, Cylinder surface treated container for monochlorosilane.
  9. Jacksier, Tracey; Benesch, Robert, Increased stability low concentration gases, products comprising same, and methods of making same.
  10. Smith,David A.; Barone,Gary A.; Higgins,Martin E.; Kendall,Bruce R. F.; Lavrich,David J., Method for chemical vapor deposition of silicon on to substrates for use in corrosive and vacuum environments.
  11. Barone, Gary A.; Schuyler, Andy S.; Stauffer, Joseph, Method of passivating a gas vessel or component of a gas transfer system using a silicon overlay coating.
  12. Jacksier, Tracey; Benesch, Robert; Haouchine, Malik, Reactive gases with concentrations of increased stability and processes for manufacturing same.
  13. Jacksier, Tracey; Benesch, Robert; Haouchine, Malik, Reactive gases with concentrations of increased stability and processes for manufacturing same.
  14. Jacksier,Tracey; Benesch,Robert; Kuhn,John, Reduced moisture compositions comprising an acid gas and a matrix gas, articles of manufacture comprising said compositions, and processes for manufacturing same.
  15. Jacksier,Tracey; Benesch,Robert; Kuhn,John, Reduced moisture compositions comprising an acid gas and a matrix gas, articles of manufacture comprising said compositions, and processes for manufacturing same.
  16. Birtcher, Charles Michael; Steidl, Thomas Andrew; Lei, Xinjian; Ivanov, Sergei Vladimirovich, Vessel with filter.
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