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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0340677 (1994-11-16) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 56 인용 특허 : 0 |
The invention relates to apparatus for use in chemical vapor infiltration and deposition (CVI/CVD) processes. More specifically, the invention relates to a preheater for heating a reactant gas inside a CVI/CVD furnace, and a fixture for depositing a matrix within a stack of porous structures by a pr
A fixture with porous structures to be pressure gradient CVI/CVD densified inside a furnace, comprising: a stack of porous structures, each porous structure having an aperture therethrough; a base plate adapted to be secured inside the furnace, said base plate having a base plate aperture therethrou
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