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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0133595 (1993-10-08) |
발명자 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 196 인용 특허 : 0 |
A sputter magnetron ion source for producing an intense plasma in a cathode container which ionizes a high and substantial percentage of the sputter cathode material and means for extracting the ions of the cathode material in a beam. The ion extraction means is implemented by a magnetic field cusp
A sputter magnetron comprising: a. high intensity plasma inducing means, said high intensity plasma inducing means including, i) a sputter cathode, said sputter cathode being a particle confining container having walls and one open side to permit extraction of ions from said container, said walls ha
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