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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0236715 (1994-04-29) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 46 인용 특허 : 0 |
A target plate assembly completely covers and seals against a top opening of a sputtering processing chamber. Cooling liquid connections are provided only from the perimeter of the target assembly. When a top vacuum chamber seals the side opposite the pressure chamber, the pressure on both sides of
A sputtering target assembly comprising: a sputtering target in intimate contact with a first side of a backing plate forming part of a target backing plate assembly; said target backing plate assembly configured to cover an opening of a sputtering chamber so as to seal the opening, said backing pla
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