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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0160885 (1993-12-03) |
우선권정보 | JP-0325783 (1992-12-04); JP-0131864 (1993-06-02) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 72 인용 특허 : 0 |
A semiconductor device of an SOIMOSFET comprising a semiconductor substrate, an insulating layer and a thin film single-crystalline semiconductor layer, the insulating layer containing a floating electrically conductive layer buried therein at a portion corresponding to the channel, the floating ele
A semiconductor device comprising a semiconductor substrate, a thin film single-crystalline semiconductor layer with an insulating layer interposed therebetween, the insulating layer containing a floating electroconductive layer buried therein, a MOSFET comprising source and drain regions in the thi
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