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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0269777 (1994-07-01) |
우선권정보 | JP-0190854 (1993-07-02); JP-0200016 (1993-07-19) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 26 인용 특허 : 0 |
A process for preparing an oxide thin film which has a crystalline, clean and smooth surface on a substrate. The process is conducted by using an apparatus comprising a vacuum chamber in which an oxidizing gas of O2 including O3 can be supplied near the substrate so that pressure around the substrat
A process for preparing a film formed of SrTiO3 oxide material on a substrate by using an apparatus comprising a vacuum chamber in which an oxidizing gas of O2 including O3 can be supplied near the substrate so that pressure around the substrate can be increased while maintaining high vacuum around
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