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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0422036 (1995-04-14) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 76 인용 특허 : 0 |
A method for fabricating a micromechanical device and a semiconductor circuit on a substrate includes the steps of forming the micromechanical device on a device area of the substrate, the micromechanical device being embedded in a sacrificial material, selectively depositing a planarization layer o
A method for fabricating a micromechanical device in a device area of a substrate and a semiconductor circuit in a circuit area of the substrate, comprising the steps of: forming a micromechanical device on the device area of said substrate, said micromechanical device being embedded in a sacrificia
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