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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0216230 (1994-03-22) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 13 인용 특허 : 0 |
An electron cyclotron resonance (ECR) ion source includes a primary mirror coil disposed coaxially around a vacuum vessel in which a plasma is induced and introducing a solenoidal ECR-producing field throughout the length of the vacuum vessel. Radial plasma confinement is provided by a multi-cusp, m
An electron cyclotron resonance (ECR) ion source comprising: a vacuum vessel in which a plasma is induced; inlet means for introducing a processing material into the vacuum vessel; extractor means for removing an ion beam from the vacuum vessel; first field generating means, disposed coaxially aroun
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