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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0513254 (1995-08-10) |
우선권정보 | JP-0078188 (1993-04-05) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 13 인용 특허 : 0 |
The present invention relates to a process for manufacturing an optical recording medium comprising a substrate and a laminate of a recording film and an inorganic dielectric film thereon, and the optical recording medium. The process comprises forming the inorganic dielectric film by using a helico
A process for manufacturing an optical recording medium comprising a substrate and a laminate of a recording film and an inorganic dielectric film thereon, wherein said process comprises forming the inorganic dielectric film by using a helicon wave plasma CVD method wherein said helicon wave plasma
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