[특허]Processing apparatus

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Processing apparatus 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	C23C-016/00
출원번호	US-0206150 (1994-03-07)
우선권정보	JP-0076174 (1993-03-10)
발명자 / 주소	Ushikawa Harunori (Sagamihara JPX) Tago Kenji (Kofu JPX)
출원인 / 주소	Tokyo Electron Kabushiki Kaisha (Tokyo-to JPX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 14 인용 특허 : 0

초록 ▼

A waiting space is provided below a processing vessel for processing objects to be processed. An objects to be processed mount which is movable up and down into the processing vessel is disposed in the waiting space for mounting objects to be processed. There is provided a natural oxide film generation suppressing gas supply system which supplies a natural oxide film generation suppressing gas for suppressing generation of natural oxide films on the surfaces of the objects to be processed, and a dried gas with a low dew point is supplied as a natural oxide film generation suppressing gas by the natural oxide film generation suppressing gas supply system. The processing apparatus can suppress generation of natural oxide films inexpensively and efficiently.

대표청구항 ▼

A processing apparatus comprising: a processing vessel for processing objects to be processed; an objects mounting means for mounting the objects to be processed and being movable up and down into and out of the processing vessel through an opening provided at the bottom thereof; an enclosed waiting space provided below the processing vessel and maintained always at an atmospheric pressure or a pressurized atmosphere where the object mounting means stands by; and a natural oxide film generation suppressing gas supply means for supplying air containing O2 and for lowering a dew point level of the air containing O2 for suppressing generation of natural oxide films on the object to be processed in the waiting space.

이 특허를 인용한 특허 (14)

Ahn Yo-han,KRX ; Yoon Jin-chul,KRX ; Yang Chang-jip,KRX ; Kim Ho-wang,KRX, Apparatus for guiding air current in a wafer loading chamber for chemical vapor deposition equipment.
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Takeshi Kubota JP; Norikazu Komatsu JP, Apparatus used for fabricating liquid crystal device and method of fabricating the same.
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Lindfors, Sven; Poutiainen, Juha Allan Kustaa-Adolf, Apparatuses and methods for deposition of material on surfaces.
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Gokon, Kiyohiko, Housing and substrate processing apparatus including the same.
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Duethorn, Berthold; Hertfelder, Thomas; Jost, Eberhard; Gail, Lothar, Method and apparatus for air guidance in a processing chamber.
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Glenn A. Roberson, Jr. ; Robert M. Genco ; Robert B. Eglinton ; Wayland Comer ; Gregory K. Mundt, Molecular contamination control system.
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Roberson ; Jr. Glenn A. ; Genco Robert M. ; Eglinton Robert B. ; Comer Wayland ; Mundt Gregory K., Molecular contamination control system.
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Roberson ; Jr. Glenn A. ; Genco Robert M. ; Eglinton Robert B. ; Comer Wayland ; Mundt Gregory K., Molecular contamination control system.
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Roberson ; Jr. Glenn A. ; Genco Robert M. ; Eglinton Robert B. ; Comer Wayland ; Mundt Gregory K., Molecular contamination control system.
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Matsunaga, Tatsuhisa; Noto, Kouichi, Substrate processing apparatus.
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Minamida, Junya; Ueda, Issei, Substrate processing apparatus.
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Ahn,Yo Han; Kim,Ki Doo; Lee,Soo Woong; Hwang,Jung Sung; Kim,Hyeog Ki, Substrate processing apparatus and method of processing substrate while controlling for contamination in substrate transfer module.
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Plumhoff, Jason; Ryan, Larry; Nolan, John; Johnson, David; Westerman, Russell, Temperature control method for photolithographic substrate.
상세보기
Taniyama Tomoshi (Tokyo JPX) Kaihotsu Hideki (Tokyo JPX) Kanamori Yoshikatsu (Tokyo JPX) Ikeda Kazuhito (Tokyo JPX) Yonemitsu Shuji (Tokyo JPX), Thermal treatment furnace in a system for manufacturing semiconductors.
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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