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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0249124 (1994-05-25) |
우선권정보 | CH-0002641 (1991-09-09); CH-0001565 (1993-05-25); CH-0002285 (1993-07-29) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 18 인용 특허 : 0 |
A dosing apparatus provides for dosing a particulate phase within a free flowing two phase flow of a gas phase and the particulate phase, wherein the two phase flow leaves a fluidized bed. The apparatus includes, at its bottom, a gas inlet mechanism to supply the gas via an orifice, and an outlet or
A dosing apparatus for dosing a particulate phase within a free-flowing two phase flow consisting of a gas phase and said particulate phase, said two phase flow leaving a fluidized bed of a certain level within a fluidized bed apparatus comprising: a fluidizing gas inlet means at its bottom region t
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