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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0549087 (1995-10-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 79 인용 특허 : 0 |
Chemical vapor deposition apparatus is provided for the quick and efficient deposition of Parylene AF4 onto silicon wafers in the production of semiconductor chips. A method of depositing parylene AF4 onto the surface of a semiconductor wafer includes cooling the semiconductor chip wafer to a temper
A method for the deposition of a parylene polymer onto a substrate comprising the steps of: cooling the substrate to a temperature below 0°C.; creating sub-atmospheric pressure conditions around said substrate; depositing a predetermined thickness of said parylene polymer onto said substrate; and he
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