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Filament assembly for mass spectrometer ion sources 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H01J-027/00
출원번호 US-0246792 (1994-05-20)
발명자 / 주소
  • Johnson Bruce S. (Alameda County CA) Khosla Mukul (Santa Clara County CA) Herron John R. (Corvallis OR) Brassil John M. (Santa Clara County CA) Schoen Alan E. (Santa Clara County CA)
출원인 / 주소
  • Finnigan Corporation (San Jose CA 02)
인용정보 피인용 횟수 : 14  인용 특허 : 0

초록

A filament assembly is disclosed for providing an electron beam to an ion source volume to ionize molecules or particles in the ion source volume. The filament assembly includes an electron lens which accelerates electrons emitted by the filament and focuses the electrons into a beam.

대표청구항

A filament assembly for projecting an electron beam into an ion source volume to ionize sample molecules or particles in the ion source volume, comprising: a base formed of insulating material, spaced filament supports carried by said base, a hairpin-shaped filament carried by said spaced filament s

이 특허를 인용한 특허 (14)

  1. Ferrara, Keith; Barkus, David; Patkin, Adam; Mannino, Rosario; Pentek, Daniel; DeLorenzo, Frank; Rasmussen, Barton, Assemblies for ion and electron sources and methods of use.
  2. Ferrara, Keith; Barkus, David; Patkin, Adam; Mannino, Rosario; Pentek, Daniel; DeLorenzo, Frank; Rasmussen, Barton, Assemblies for ion and electron sources and methods of use.
  3. Traynor, Peter John; Wright, Robert George, Carbon nanotube electron ionization sources.
  4. Horsky, Thomas N., Electron impact ion source.
  5. Horsky,Thomas N., Electron impact ion source.
  6. Colby, Steven M., Electron source.
  7. Wells, Gregory J.; Marquette, Edward G., Electron source for ionization with leakage current suppression.
  8. Manura, John J.; Baker, Christopher W.; Shomo, II, Ronald E., Emission filaments made from a rhenium alloy and method of manufacturing thereof.
  9. Splendore, Maurizio; Muntean, Felician; Moeller, Roy P., Filament for mass spectrometric electron impact ion source.
  10. Horsky, Thomas N.; Jacobson, Dale C., Ion implantation device and a method of semiconductor manufacturing by the implantation of boron hydride cluster ions.
  11. Horsky, Thomas N.; Jacobson, Dale C., Ion implantation device and a method of semiconductor manufacturing by the implantation of boron hydride cluster ions.
  12. Horsky,Thomas N.; Jacobson,Dale C., Ion implantation device and a method of semiconductor manufacturing by the implantation of boron hydride cluster ions.
  13. Baumgardner,James; Neufeld,Gordon, Membrane countercurrent exchanger and membrane inlet mass spectrometer for the analysis of gas partial pressure in liquid samples.
  14. Manura, John J.; Baker, Christopher W.; Shomo, II, Ronald E., Method of manufacturing rhenium alloy emission filaments.
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