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특허 상세정보

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Two-wavelength antireflection film

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) G02B-001/10    G02B-005/28   
미국특허분류(USC) 359/586 ; 359/580 ; 359/588 ; 359/589
출원번호 US-0299402 (1994-09-01)
우선권정보 JP-0246445 (1993-09-07)
발명자 / 주소
출원인 / 주소
인용정보 피인용 횟수 : 4  인용 특허 : 0
초록
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A two-wavelength antireflection film is constituted by a multi-layered film provided on a substrate so as to have antireflection characteristics for a wavelength l1 and a wavelength l2 different from the wavelength l1. Each of the materials constituting the multi-layered film has a refractive index not exceeding 1.7 for a central wavelength l0 which is defined by 2/l0=1/l1+1/l2. The materials constituting the multi-layered film are Al2O3, SiO2 and MgF2, or Al2O3 and MgF2. Each of plural films constituting the multi-layered film has an optical thickness e...

대표
청구항
▼

A two-wavelength antireflection film having antireflective characteristics for a wavelength l1 and a wavelength l2 different from the wavelength l1, comprising: a multi-layered film provided on a substrate; wherein each of the materials constituting said multi-layered film has a refractive index not exceeding 1.7 for a central wavelength l0, which is defined by the following relation: 2/l0=1/l1+1/l2; and wherein said multi-layered film is a three-layered film consisting, in the order from the surface of said substrate, of films of MgF2, Al2O3 and MgF2, w...

이 특허를 인용한 특허 피인용횟수: 4

  1. John F. Sopko ; Michael O. Okoroafor ; Huawen Li ; George A. Neuman. Conductive antireflective coatings and methods of producing same. USP2002086436541.
  2. Eisenkr채mer,Frank. Inspection microscope for several wavelength ranges and reflection reducing layer for an inspection microscope for several wavelength ranges. USP2007097274505.
  3. Meredith ; Jr. William A.. Three variable optimization system for thin film coating design. USP1998095812405.
  4. Andressen, Clarence C.; Anderson, Robert C.. Transparent silicon detector and multimode seeker using the detector. USP2012098274027.

IPC 상위 출원인