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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0442259 (1995-05-16) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 55 인용 특허 : 0 |
An ultrasmooth diamond film has a thickness greater than about ten microns and an average grain size less than about 0.5 micron. The ultrasmooth diamond film of the present invention is grown using ordinary microwave plasma CVD methods, with a metal vapor source included in the reactor to produce va
A synthetic diamond film having a grain size less than about 0.5 micron and a thickness greater than about 10 microns.
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