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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0970545 (1992-11-02) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 33 인용 특허 : 0 |
Sharpened microminiature tips are produced by casting in a silicon/silicon dioxide mold. The silicon dioxide layer is formed by exposing cavities in a single crystal substrate to an oxidizing species at a low temperature. Anomalous oxidation of silicon results in a differential thickness in the sili
In fabricating a microminiature tip assembly having a cantilever terminating in a microminiature tip provided with a free end, the steps of: coating a predetermined surface of a single crystal silicon substrate with a layer of masking material; forming an opening in said masking material layer to ex
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