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Oligomerized cyclobutarene resins 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C08F-130/08
출원번호 US-0465666 (1995-06-05)
발명자 / 주소
  • Oaks Frank L. (San Carlos CA) Moyer Eric S. (Midland MI) Rutter
  • Jr. Edward W. (Midland MI) Harris Robert F. (Midland MI)
출원인 / 주소
  • The Dow Chemical Company (Midland MI 02)
인용정보 피인용 횟수 : 22  인용 특허 : 12

초록

An oligomerized cyclobutarene containing 80 weight percent or more of oligomers of a degree of polymerization of three or more.

대표청구항

A mesitylene soluble oligomerized cyclobutarene containing 80 percent or more of oligomers of a degree of polymerization of three or more as determined from peak area percent by GPC, using a refractive index detector, uncorrected for response factors and as measured against polystyrene standards.

이 특허에 인용된 특허 (12)

  1. Kirchhoff Robert A. (Midland MI) Gilpin Jo Ann (Midland MI), Adhesive compositions from arylcyclobutene monomeric compositions.
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  2. Hahn Stephen F. (Midland MI) Kirchhoff Robert A. (Midland MI), Arylcyclobutane/dienophile copolymer.
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  3. Hahn Stephen F. (Midland MI) Kreil Dennis J. (Midland MI), Benzocyclobutene-based organosilane adhesion aids.
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  4. Wong Pui K. (Katy TX), Bisphenol ethers.
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  5. Kataoka Fumio (Yokohama JPX) Shoji Fusaji (Yokohama JPX) Obara Isao (Kamakura JPX) Takemoto Issei (Yokohama JPX) Yokono Hitoshi (Katsuta JPX) Isogai Tokio (Fujisawa JPX) Kojima Mitsumasa (Hitachi JPX, Light-sensitive polymer composition with poly(amic acid), bisazide, and tertiary amine compound.
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  6. Harita Yoshiyuki (Kawasaki JPX) Kamoshida Yoichi (Yokohama JPX) Harada Kunihiro (Machida JPX), Photoresist composition containing modified cyclized diene polymers.
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  7. Ikeda ; Hiroharu ; Aotani ; Seiji ; Harita ; Yoshiyuki, Photosensitive cross-linkable azide containing polymeric composition.
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  8. Kirchhoff, Robert A., Polymers derived from poly(arylcyclobutenes).
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  9. Schrock Alan K. (Lake Jackson TX), Polyorganosiloxane-bridged bisbenzocyclobutene monomers.
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  10. Kirchhoff Robert A. (Midland MI) Schrock Alan (Midland MI) Gilpin Jo A. (Midland MI), Prepolymer processing of arylcyclobutene monomeric compositions.
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  11. Saigo Kazuhide (Tokyo JPX) Suzuki Masayoshi (Tokyo JPX), Resist material comprising polymer of allylsilyl compound and pattern forming method using the resist material.
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  12. Parker Theodore L. (Walnut Creek CA) Sanders ; Jr. Edgar S. (Pittsburg CA), Semi-permeable membranes derived from reactive oligomers.
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이 특허를 인용한 특허 (22)

  1. So, Ying H.; DeVries, Robert A.; Dibbs, Mitchell G.; McGee, Robert L.; Shaffer, II, Edward O.; Radler, Michael J.; DeCaire, Richard P., Acid functional polymers based on benzocyclobutene.
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  2. Ying H. So ; Robert A. DeVries ; Mitchell G. Dibbs ; Robert L. McGee ; Edward O. Shaffer, II ; Michael J. Radler ; Richard P. DeCaire, Acid functional polymers based on benzocyclobutene.
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  3. Zhong, Xing-Fu; Flaim, Tony D.; Malhotra, Jyoti, Alkaline-resistant negative photoresist for silicon wet-etch without silicon nitride.
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  4. Jiang Linda (Tong) ; Hymes Diane J., Method and apparatus for cleaning low K dielectric and metal wafer surfaces.
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  5. Jiang Linda ; Hymes Diane J., Method and apparatus for cleaning low K dielectric and metal wafer surfaces.
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  6. Bosarge, John Francis; Maljkovic, Nikica, Method for producing subsonic ammunition casing.
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  7. Maljkovic, Nikica, Neck polymeric ammunition casing geometry.
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  8. Zhong, Xing-Fu; Malhotra, Jyoti K.; Li, Chenghong, Negative photoresist for silicon KOH etch without silicon nitride.
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  9. Humphries, Martin; Wilson, Richard J., Organic light emitting composition, device and method.
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  10. So, Ying Hung; Murlick, Cheryl L.; Scheck, Daniel M.; Becker, Gregory S.; Moyer, Eric S., Photodefineable compositions.
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  11. Maljkovic, Nikica; Bosarge, Jr., John Francis; Gibbons, Jr., Joe Paul, Polymeric ammunition casing geometry.
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  12. Humphries, Martin; Bourcet, Florence; Zuberi, Sheena, Polymers, monomers and methods of forming polymers.
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  13. Tomita Masahiro,JPX ; Souki Yasuo,JPX ; Ito Motoki,JPX ; Tanaka Kazuo,JPX ; Tanaka Hiroshi,JPX, Semiconductor wafer etching method.
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  14. Li, Chenghong; Ruben, Kimberly A.; Flaim, Tony D., Spin-on protective coatings for wet-etch processing of microelectronic substrates.
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  15. Li, Chenghong; Yess, Kimberly A.; Flaim, Tony D., Spin-on protective coatings for wet-etch processing of microelectronic substrates.
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  16. Li,Chenghong; Ruben,Kimberly A.; Flaim,Tony D., Spin-on protective coatings for wet-etch processing of microelectronic substrates.
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  17. Xu, Gu; Yess, Kimberly A.; Flaim, Tony D., Spin-on protective coatings for wet-etch processing of microelectronic substrates.
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  18. Xu, Gu; Yess, Kimberly A.; Flaim, Tony D., Spin-on protective coatings for wet-etch processing of microelectronic substrates.
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  19. Maljkovic, Nikica; Gibbons, Joe Paul; Bosarge, John Francis, Subsonic ammunition casing.
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  20. Maljkovic, Nikica; Gibbons, Jr., Joe Paul; Bosarge, Jr., John Francis, Subsonic ammunition casing.
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  21. Kaoru Ohba JP; Brian Martin ; Hideki Akimoto JP; Albert Charles Marie Achen FR; Philip E. Garrou ; Britton Lee Kaliszewski ; Ying-Hung So, Toughened benzocyclobutene based polymers and their use in building-up printed wiring boards.
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  22. Ohba, Kaoru; Akimoto, Hideki; Garrou, Philip E.; So, Ying-Hung; Kaliszewski, Britton Lee, Toughened benzocyclobutene based polymers and their use in building-up printed wiring boards.
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