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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0550563 (1995-10-30) |
우선권정보 | JP-0340048 (1994-12-28) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 16 인용 특허 : 2 |
Photocurable resins containing unsaturated urethane of a specified form and vinyl monomer which is N-(meth)acryloylmorpholine or its mixture with di-ol di(meth)acrylate at a rate within a specified range and compositions containing such a resin and a filler such as solid particles and/or inorganic w
A photocurable resin for stereolithography comprising unsaturated urethane shown by Formula (1) or Formula (2) given below: [Figure] (Formula 1) [Figure] (Formula 2) and a vinyl monomer and a photoinitiator, said vinyl monomer being N-(meth)acryloyl selected from N-acryloyl morpholine, N-methacryloy
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