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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0247294 (1994-05-23) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 255 인용 특허 : 51 |
A method for implanting cells is disclosed which employs a chamber having a wall forming porous boundary between the host and implanted cells. According to the method, a given number of cells (N) is placed within the porous boundary of a given area (A) such that the quantity A/N is less than about 2
A method of implanting cells comprising the steps of providing a wall comprising a porous boundary, wherein the wall defines a chamber for holding cells for implantation and the porous boundary has a given area (A); placing within the chamber a given number of cells (N) such that the quantity A/N is
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