$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Process for cleaning harmful gas 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • C01B-007/07
  • B01D-053/68
출원번호 US-0308648 (1994-09-19)
우선권정보 JP-0327576 (1991-12-11); JP-0169104 (1992-06-26)
발명자 / 주소
  • Akita Noboru (Hiratsuka JPX) Hatakeyama Toshiya (Hiratsuka JPX) Shimada Takashi (Hiratsuka JPX) Iwata Keiichi (Hiratsuka JPX)
출원인 / 주소
  • Japan Pionics Co., Ltd. (Tokyo JPX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 18  인용 특허 : 8

초록

There is disclosed a process for cleaning a harmful gas which comprises bringing a harmful gaseous halogenide such as chlorine, hydrogen chloride, dichlorosilane, silicon tetrachloride, phosphorus trichloride, chlorine trifluoride, boron trichloride, boron trifluoride, tungsten hexafluoride, silicon

대표청구항

A process for cleaning a harmful gas which comprises contacting a gas, at a space linear velocity of from 0.05 to 0.3 m/sec, containing at least one gaseous component selected from the group consisting of silicon tetrachloride, chlorine, hydrogen chloride, silicon tetrafluoride, phosphorus trichlori

이 특허에 인용된 특허 (8)

  1. Kitayama Masayasu (Kawasaki JPX) Sugimori Yoshiaki (Tokyo JPX) Ohta Schunich (Fujisawa JPX), Absorbent for treating gases containing the materials used for semiconductor products and process of treating such gases.
  2. Sakata Yoshitsugu (Otsu JPX) Fukahori Shinogu (Nishinomiya JPX) Kodera Hiroyuki (Amagasaki JPX) Iwata Kenzi (Higashiosaka JPX), Acidic gas absorbent and process for production thereof.
  3. Schumacher John C. (Carlsbad CA) Anderson Lawrence B. (Encinitas CA) Hammon Timothy E. (Cardiff CA), Device for preventing accidental releases of hazardous gases.
  4. Fukunaga Akira (Kanagawa JPX) Arimitsu Hidenobu (Kanagawa JPX) Yasuhara Yoshiharu (Kanagawa JPX) Shiota Toshihiko (Kanagawa JPX), Gas absorber.
  5. Kitahara Koichi (Kanagawa JPX) Shimada Takashi (Kanagawa JPX), Method for cleaning exhaust gases.
  6. Nishino Hiroshi (Suita JPX) Aibe Toshio (Kashima JPX), Method for removal of poisonous gases.
  7. Fukunaga Akira (Kanagawa JPX) Mori Yoichi (Kanagawa JPX), Method of treating waste gas.
  8. Akita Noboru (Hiratsuka JPX) Hatakeyama Toshiya (Hiratsuka JPX) Shimada Takashi (Hiratsuka JPX) Iwata Keiichi (Hiratsuka JPX), Process for cleaning harmful gas.

이 특허를 인용한 특허 (18)

  1. Thomas Hsiao-Ling Hsiung ; Howard Paul Withers, Jr., Abatement of F2 using small particle fluidized bed.
  2. Langan John Giles ; Withers ; Jr. Howard Paul, Abatement of NF.sub.3 with metal oxalates.
  3. Shamouil Shamouilian ; Mehran Moalem ; Tony S. Kaushal, Abatement of fluorine gas from effluent.
  4. Shamouilian, Shamouil; Kaushal, Tony S., Abatement of hazardous gases in effluent.
  5. Ferron, Shawn; Kelly, John; Vermeulen, Robbert, Apparatus and method for controlled combustion of gaseous pollutants.
  6. Ashish Bhatnagar ; Kartik Ramaswamy ; Tony S. Kaushal ; Kwok Manus Wong ; Shamouil Shamouilian, Erosion resistant gas energizer.
  7. Kaushal, Tony S.; Shamouilian, Shamouil; Borgaonkar, Harshad; Wong, Kwok Manus; Chafin, Michael G.; Bhatnagar, Ashish, Heated catalytic treatment of an effluent gas from a substrate fabrication process.
  8. Revankar, Vithal; Ibrahim, Jameel, Method for treatment of a gas stream containing silicon tetrafluoride and hydrogen chloride.
  9. Clark, Daniel O.; Raoux, Sebastien; Vermeulen, Robert M.; Crawford, Shaun W., Methods and apparatus for sensing characteristics of the contents of a process abatement reactor.
  10. Bazer-Bachi, Delphine; Chiche, David; Lopez, Joseph; Lelias, Marc Antoine, Preparation of a solid based on zinc oxide for use in purifying a gas or a liquid.
  11. Nedez, Christophe, Process for eliminating halogen-containing compounds contained in a gas or liquid using an adsorbent composition based on at least one metallic element.
  12. Kanno, Shuichi; Arato, Toshiaki; Ikeda, Shinzo; Yasuda, Ken; Yamashita, Hisao; Azuhata, Shigeru; Tamata, Shin; Irie, Kazuyoshi, Process for treating fluorine compound-containing gas.
  13. Rajoria, Dalbir S., Purification of gaseous inorganic halide.
  14. Chiu, Ho-Man Rodney; Clark, Daniel O.; Crawford, Shaun W.; Jung, Jay J.; Todd, Leonard B.; Vermeulen, Robbert, Reactor design to reduce particle deposition during process abatement.
  15. Tsuneyoshi Takase JP; Nobuyashi Hayashi JP; Yasushi Shioya JP; Kaoru Fujiwara JP; Mitsuhiro Ohashi JP, Solid chloride absorbent.
  16. Bhatnagar, Ashish; Kaushal, Tony S.; Wong, Kwok Manus; Shamouilian, Shamouil, Treatment of hazardous gases in effluent.
  17. Croll, Lisa M.; Dahn, Jeffrey R.; Smith, Jock W. H.; Romero, Jennifer V., Zinc oxide containing filter media and methods of forming the same.
  18. Croll, Lisa M.; Dahn, Jeffrey R.; Smith, Jock W. H.; Romero, Jennifer V., Zinc oxide containing filter media and methods of forming the same.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로