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특허 상세정보

Amorphous silicon oxycarbide coated silicon carbide or carbon fibers

특허상세정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판) D02G-003/00   
미국특허분류(USC) 428/375 ; 428/378 ; 428/387 ; 428/379
출원번호 US-0498272 (1995-07-03)
발명자 / 주소
  • Prochazka Svante (Ballston Lake NY)
출원인 / 주소
  • General Electric Company (Schenectady NY 02)
인용정보 피인용 횟수 : 15  인용 특허 : 5
초록

Fibers having reduced surface roughness have a continuous coating of a silicone resin that undergoes pyrolysis in hydrogen or helium to form a hard, amorphous solid coat containing silicon, oxygen, and carbon. This silicon oxycarbide glass coating has exceptional high temperature strength and chemical stability compared to even vitreous silica. The coating is resistant to crystallization and oxidation at temperatures above 1000°C.

대표
청구항

A silicon carbide or carbon fiber having reduced surface roughness comprising the silicon carbide or carbon fiber having a continuous surface coating of a silicone resin on an outer surface of said fiber, where the silicone resin coated silicon carbide or carbon fiber undergoes pyrolysis in a protective atmosphere to form a hard, solid silicon oxycarbide glass coat on the outer surface of the silicon carbide or carbon fiber.

이 특허를 인용한 특허 (15)

  1. Golecki, Ilan; Walker, Terence B.; Booker, Laurie A., Fluidizing oxidation protection systems.
  2. Ranade, Alpana N.; Matos, Marvi A.; Ghabchi, Arash, Interlayer composite substrates.
  3. Clough, Thomas J., Metal oxyanion coated nano substrates.
  4. Clough, Thomas J., Metal oxyanion coated substrates.
  5. Ohmi, Tadahiro; Hirayama, Masaki; Goto, Tetsuya; Shirai, Yasuyuki; Kitano, Masafumi; Watanuki, Kohei; Matsuoka, Takaaki; Murakawa, Shigemi, Microwave plasma processing apparatus, dielectric window for use in the microwave plasma processing apparatus, and method for manufacturing the dielectric window.
  6. Golecki, Ilan, Oxidation-protective coatings for carbon-carbon components.
  7. Hong S. Shim ; Mark C. S. Shu ; David L. Miller ; Edward Di Domenico ; Catherine E. Taylor ; Kenneth Keeney ; Mark T. Stewart ; Eileen L. Halverson, Plasma process for surface modification of pyrolitic carbon.
  8. Kawakami Soichiro,JPX ; Kobayashi Naoya,JPX ; Asao Masaya,JPX, Rechargeable lithium battery having an improved cathode and process for the production thereof.
  9. Saha, Atanu; Joshi, Salil Mohan; Zhang, An-Ping, SiOC membranes and methods of making the same.
  10. Oudard,Jean Francois, Silicon oxycarbide coatings having durable hydrophilic properties.
  11. Nakata,Yoshihiro; Yano,Ei, Silicon-based composition, low dielectric constant film, semiconductor device, and method for producing low dielectric constant film.
  12. Crosby, Alfred J.; Chan, Edwin P., Surface buckling method and articles formed thereby.
  13. Crosby, Alfred J.; Chan, Edwin P., Surface buckling method and articles formed thereby.
  14. Clough, Thomas J., Thin film metal oxyanion coated substrates.
  15. Crosby, Alfred J.; Chan, Edwin P.; Hayward, Ryan C., Wrinkled adhesive surfaces and methods for the preparation thereof.