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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0170770 (1993-12-21) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 59 인용 특허 : 8 |
A process for depositing amorphous or nanophase diamondlike carbon (DLC) and a-C:H carbon/hydrogen films with variable and controllable properties on the surface of a substrate is disclosed. The process utilizes a combined hydrocarbon ion beam and plasma-activated hydrocarbon gaseous radical flux pr
A process for depositing a carbon containing film, such as, amorphous carbon (a-C), amorphous hydrogenated carbon (a-C:H), or, diamondlike carbon (DLC) film on a substrate using an end-Hall ion source, comprising the steps of: a. providing an end-Hall ion source in a vacuum chamber; b. providing a s
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