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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0453464 (1995-05-30) |
우선권정보 | JP-0013212 (1992-01-28) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 9 인용 특허 : 5 |
Method for coating a substrate formed of a sintered silicon nitride based material with a film of diamond by a gas phase synthesis technique including a first step of applying a film having a thickness of 0.5 to 2.0 mm
A method for coating a substrate of a cutting tool formed of a silicon nitride based material with a diamond film by a gas phase synthesis technique comprising providing a substrate of a sintered silicon nitride based material having grain boundary components which volatilize at a lower temperature
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