$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Method and apparatus for maintaining sensitive articles in a contaminant-free environment 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • F26B-019/00
출원번호 US-0566075 (1995-12-01)
발명자 / 주소
  • Brooks Ray G. (Irving TX) Brooks Timothy W. (Irving TX)
출원인 / 주소
  • Convey, Inc. (Euless TX 02)
인용정보 피인용 횟수 : 23  인용 특허 : 7

초록

An apparatus and method for maintaining sensitive articles such as IC wafers or the like contaminant-free including a base member having a removable cover defining a sealed unit having an interior in which a plurality of sensitive articles are supported and through which a particle-free ionizing gas

대표청구항

A container for treating sensitive articles such as semiconductor wafers comprising: a base member for containing substrate wafers in a vertically stacked, spaced-apart relationship, a cover adapted to fit over said base member, an inlet on said cover for continuously passing a particle-free, ionize

이 특허에 인용된 특허 (7)

  1. Kawano Hitoshi (Ise JPX) Okuno Atsushi (Ise JPX) Tsuda Masanori (Ise JPX) Hayashi Mitsuhiro (Ise JPX) Yamashita Teppei (Ise JPX) Murata Masanao (Ise JPX) Tanaka Tsuyoshi (Ise JPX) Morita Teruya (Ise , Article storage house in a clean room.
  2. Yamashita, Teppei; Murata, Masanao; Tanaka, Tsuyoshi; Morita, Teruya; Kawano, Hitoshi; Okuno, Atsushi; Tsuda, Masanori; Hayashi, Mitsuhiro, Closed container to be used in a clean room.
  3. Williams Randall S. (Chaska MN) Cheesebrow Nicholas T. (St. Paul MN), Mechanical interface wafer container.
  4. Brooks Ray G. (Irving TX) Brooks Timothy W. (Irving TX) Corris C. James (Elkmont AL), Method and apparatus for maintaining clean articles.
  5. Fukutomi Yoshiteru (Kyoto JPX) Ohtani Masami (Kyoto JPX) Okamoto Takeo (Kyoto JPX), Substrate transport apparatus.
  6. Sugita Masanao (Ise JPX) Kawano Hitoshi (Ise JPX) Yamashita Teppei (Ise JPX), Unmanned conveying device in clean room.
  7. Yamashita Teppei (Ise JPX) Murata Masanao (Ise JPX) Tanaka Tsuyoshi (Ise JPX) Morita Teruya (Ise JPX) Kawano Hitoshi (Ise JPX) Okuno Atsushi (Ise JPX) Tsuda Masanori (Ise JPX) Hayashi Mitsuhiro (Ise , Wafer airtight keeping unit and keeping facility thereof.

이 특허를 인용한 특허 (23)

  1. Raaijmakers Ivo, Apparatus for cooling substrates.
  2. Brooks Ray G. ; Brooks Timothy W. ; Fowler Stephen L., Apparatus for packaging contaminant-sensitive articles and resulting package.
  3. Raaijmakers, Ivo, Apparatus for thermal treatment of substrates.
  4. Chang Sung-Hun,KRX, Chuck assembly with a contamination prevention device for a semiconductor wafer transfer apparatus.
  5. Obara, Mitsuru; Inoue, Hisashi; Shionaga, Keishi; Kobayashi, Masahiro; Baba, Norio; Kikuchi, Hiroshi, Clamp apparatus, substrate carry-in/out apparatus using the same, and substrate processing apparatus.
  6. Chevalier Mathieu,FRX ; Chevalier Christophe,FRX, Close contamination protection device and method thereof for food.
  7. Albert Wang, End-effector with integrated cooling mechanism.
  8. Paul E. Lewis ; Adel George Tannous ; Karl A. Davlin, Method and apparatus for processing tool interface in a manufacturing environment.
  9. Ghanayem Steve G. ; Chandrachood Madhavi, Method and apparatus for reducing particle contamination during wafer transport.
  10. Raaijmakers Ivo, Method of cooling wafers.
  11. Dao, Giang T.; Kuse, Ronald J., Method of transporting a reticle.
  12. Tieben, Anthony Mathius; Halbmeier, David L.; Kolbow, Steven P., Purge system for a substrate container.
  13. Dao Giang T. ; Kuse Ronald J., Reduced particle contamination manufacturing and packaging for reticles.
  14. Dao, Giang T.; Kuse, Ronald J., Reduced particle contamination manufacturing and packaging for reticles.
  15. Dao, Giang T.; Kuse, Ronald J., Reduced particle contamination manufacturing and packaging for reticles.
  16. Dao,Giang T.; Kuse,Ronald J., Reduced particle contamination manufacturing and packaging for reticles.
  17. Wang, Song; Wan, Jiyu; Feng, He; Wu, Hongjiang, Reduced pressure drying method and device of a substrate.
  18. Kim Beom-Soo,KRX, Reticle cleaning apparatus for wafer exposure system.
  19. Ma, Yin-Cheng, Stationary and pivotable trays for semiconductor wafer transfer.
  20. Tieben, Anthony Mathius; Lystad, John; Halbmaier, David L., Substrate container with fluid-sealing flow passageway.
  21. Tieben,Anthony Mathius; Lystad,John; Halbmaier,David L., Substrate container with fluid-sealing flow passageway.
  22. Thomas W. Aswad, Substrate cooling system.
  23. Aswad, Thomas W., Substrate cooling system and method.
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로