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Process for producing a glass-coated article

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • B32B-031/26
  • B05D-005/12
출원번호 US-0381735 (1995-02-01)
발명자 / 주소
  • Stevens Ralph E. (Merrimack NH) Perko Richard J. (Chelmsford MA) Gibson R. James (Chandler AZ)
출원인 / 주소
  • The Whitaker Corporation (Wilmington DE 02)
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 10

초록

A process for producing a glass-coated article having a silicon substrate and the article produced thereby are provided. According to the process of the present invention, a layer of glass wetting agent material is formed on the substrate to improve wetting of a glass material to the article. A desi

대표청구항

A process for producing a fired glass-coated article having a silicon substrate, comprising the steps of: forming a first adhesion layer on said silicon substrate; forming a first diffusion barrier layer on said first adhesion layer; forming a conductive layer on said first barrier layer; forming a

이 특허에 인용된 특허 (10)

  1. Reed David J. (Mesa AZ) Fairbanks Robert K. (Phoenix AZ), Coplanar die to substrate bond method.
  2. Prabhu Ashok N. (Plainsboro NJ) Hang Kenneth W. (Princeton Jct. NJ), Crossover dielectric inks used in forming a multilayer electrical circuit.
  3. Hang Kenneth W. (Windsor Township ; Mercer County NJ) Prabhu Ashok N. (Windsor Township ; Mercer County NJ), Devitrifying glass frits.
  4. Muller Gerd (Mainz-Weisenau DEX), Glass composition for passivating semiconductor surfaces.
  5. Sawada Renshi (Tokorozawa JPX) Watanabe Junji (Tokyo JPX), Method of joining semiconductor substrates.
  6. Perko Richard J. (Tempe AZ) Chu Alejandro (Lexington MA), Method of making microwave integrated circuits.
  7. Goodman Alvin M. (Princeton NJ) Tarng Ming L. (Mercerville NJ), Method of passivating a semiconductor device with a multi-layer passivant system by thermally growing a layer of oxide o.
  8. Omata Takahisa (Ayase JPX) Yanagimachi Masaru (Tochigi JPX) Matsuuchi Tosio (Tochigi JPX) Koyanagi Yoshinori (Tochigi JPX), Raw batches for ceramic substrates, substrates produced from the raw batches, and production process of the substrates.
  9. Fletcher ; James C. Administrator of the National Aeronautics and Space ; Administration ; with respect to an invention of ; Goldstein ; Howard E. ; Leiser ; Daniel B. ; Katvala ; Victor W., Reaction cured glass and glass coatings.
  10. Ishihara Masayuki (Neyagawa JPX) Makio Keizo (Shijonawate JPX), Sintered glass-powder product.

이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Yao, Liang-Gi; Wang, Ming-Fang; Lin, Yeou-Ming; Ho, Tuo-Hung; Chen, Shih-Chang, Chemical vapor deposition (CVD) method employing wetting pre-treatment.
  2. Ross,Matthew; Thompson,Heike; Yang,Jingjun, Electron beam modification of CVD deposited films, forming low dielectric constant materials.
  3. Leib, Jürgen; Mund, Dietrich, Glass material for radio-frequency applications.
  4. Kevin Glenn Ressler ; Jim-Yong Chi, Glass-coated substrates for high frequency applications.
  5. Eldridge Benjamin N. ; Khandros Igor Y. ; Mathieu Gaetan L., Method and apparatus for applying a layer of flowable coating material to a surface of an electronic component.
  6. Haque, Razi-ul; Wise, Kensall, Method of embedding material in a glass substrate.
  7. Cahill, Sean, Micro circuits with a sculpted ground plane.
  8. Ressler Kevin Glenn ; Chi Jim-Yong, Process for manufacturing composite glass/Si substrates for microwave integrated circuit fabrication.
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