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Heater for chemical vapor deposition equipment 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)
  • H05B-003/68
출원번호 US-0385968 (1995-02-09)
우선권정보 KR-0009004 (1994-04-27)
발명자 / 주소
  • Min Suk-Ki (Seoul KRX) Kim Moo Sung (Seoul KRX) Kim Seong-Il (Seoul KRX) Kim Yong (Kyungki-Do KRX)
출원인 / 주소
  • Korea Institute of Science and Technology (Seoul KRX 03)
인용정보 피인용 횟수 : 8  인용 특허 : 0

초록

A heater for a chemical vapor deposition equipment includes a meandering heating wire made of either molybdenum or tungsten and having a diameter of about 1 mm. The heating wire is laid on a heater disc that is made of either molybdenum, tungsten or ceramic. The heater disc is holed at its center fo

대표청구항

A heater for chemical vapor deposition equipment comprising: a meandering heating wire, said wire being bent in a plane; a heater disc, said disc supporting said heating wire thereupon; a plurality of heating wire fixtures for supporting said heating wire, at spaced points along said wire, on said h

이 특허를 인용한 특허 (8)

  1. Lee, Chung J.; Kumar, Atul, Composite polymer dielectric film.
  2. Reynolds H. Vincent, Heated workpiece holder for wet plating bath.
  3. Arun Madan ; Scott Morrison ; Jianping Xi, Hot wire chemical vapor deposition method and apparatus using graphite hot rods.
  4. Selvamanickam,Venkat, Method for manufacturing high temperature superconducting conductors using chemical vapor deposition (CVD).
  5. Selvamanickam, Venkat; Lee, Hee-Gyoun, Method for manufacturing high-temperature superconducting conductors.
  6. Lee,Chung J.; Kumar,Atul, Single and dual damascene techniques utilizing composite polymer dielectric film.
  7. Shim, Kyung Sik, Single wafer LPCVD apparatus.
  8. Lee,Chung J.; Kumar,Atul; Chen,Chieh; Pikovsky,Yuri, System for forming composite polymer dielectric film.
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