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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) | H01L-031/00 H01L-021/44 |
미국특허분류(USC) | 437/178 ; 437/103 ; 437/106 ; 437/175 |
출원번호 | US-0646795 (1996-05-21) |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 | |
인용정보 | 피인용 횟수 : 2 인용 특허 : 0 |
Extended cutoff wavelengths of PtSi Schottky infrared detectors in the long wavelength infrared (LWIR) regime have been demonstrated for the first time. This result was achieved by incorporating a 1-nm-thick p+doping spike at the PtSi/Si interface. The extended cutoff wavelengths resulted from the combined effects of an increased electric field near the silicide/Si interface due to the p+doping spike and the Schottky image force. The p+doping spikes were grown by molecular beam epitaxy at 450 degrees Celsius using elemental boron as the dopant source, wi...
A method of fabricating a PtSi Schottky infrared detector comprising the steps of: a) providing a Si substrate; b) depositing less than 2 nm thick layer of p-doped Si onto said substrate; and c) depositing a layer of PtSi on said p-doped Si layer by co-evaporating Pt and Si in a 1:1 ratio while the substrate is held at a temperature of about 450 degrees C.