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NTIS 바로가기국가/구분 | United States(US) Patent 등록 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | US-0351476 (1995-02-09) |
우선권정보 | JP-0096200 (1993-04-22) |
국제출원번호 | PCT/JP94/00676 (1994-04-22) |
§371/§102 date | 19950209 (19950209) |
국제공개번호 | WO-9424501 (1994-10-27) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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인용정보 | 피인용 횟수 : 10 인용 특허 : 0 |
Disclosed is a production process and apparatus of high-purity air and various air material gases for semiconductor production factories that, together with enabling the production of high-purity air, also enables the production high-purity nitrogen simultaneous to the production of oxygen-rich air
A process for producing gases for semiconductor production factories comprising: introducing feed air compressed to a pressure of 3-10 kg/cm2G into a catalyst tower to convert carbon monoxide, hydrocarbons and hydrogen in said feed air into carbon dioxide and water by catalytic reaction; cooling the
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