[특허]Sensor apparatus for process measurement

Sensor apparatus for process measurement 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	United States(US) Patent 등록
국제특허분류(IPC7판)	G01D-005/12 G01M-019/00 G01F-023/24
출원번호	US-0574818 (1995-12-19)
발명자 / 주소	Cummings Donald D. (Greenwood IN) Wartmann Gerd (Greenwood IN) Perdue Kenneth L. (Franklin IN)
출원인 / 주소	Endress +Hauser GmbH +Co. (Maulburg DEX 03)
인용정보	피인용 횟수 : 26 인용 특허 : 0

초록 ▼

A sensor apparatus is provided for transmitting electrical pulses from a signal line into a vessel to measure a process parameter. The sensor apparatus includes a lower flange configured to be coupled to the vessel. The lower flange is formed to include a central aperture defined by a radially outwardly tapered surface located adjacent a top surface of the lower flange. The apparatus also includes a conductive probe element including a head having first and second radially outwardly tapered surfaces and an elongated conductive portion extending away from the head. The first tapered surface of the head is configured to engage the tapered surface of the lower flange to prevent movement of the probe element in a direction toward the lower flange. The apparatus further includes an upper flange configured to be coupled to the lower flange to secure the probe element to the lower flange. The upper flange includes a central aperture defined by a radially outwardly tapered surface located adjacent a bottom surface of the upper flange. The tapered surface of the upper flange is configured to engage the second tapered surface of the probe element to prevent movement of the probe element in a direction toward the upper flange. The apparatus still further includes a launch plate coupled to the upper flange, and an electrical connector coupled to the probe element. The connector is configured to couple the signal line to the probe element.

대표청구항 ▼

A sensor apparatus for transmitting electrical pulses from a signal line into and out of a vessel to measure a process variable, the sensor apparatus comprising: a lower flange configured to be coupled to the vessel, the lower flange being formed to include a central aperture defined by an outwardly tapered surface located adjacent a top surface of the lower flange; a conductive probe element including a head having a first outwardly tapered surface, a second inwardly tapered surface, and an elongated conductive portion extending away from the head, the first tapered surface of the head being configured to engage the tapered surface of the lower flange to prevent movement of the probe element in a direction toward the lower flange; an upper flange configured to be coupled to the lower flange to secure the probe element to the lower flange, the upper flange including a central aperture defined by an inwardly tapered surface located adjacent a bottom surface of the upper flange, the tapered surface of the upper flange being configured to engage the second tapered surface of the probe element to prevent movement of the probe element in a direction toward the upper flange; and an electrical connector coupled to the probe element, the connector being configured to couple the signal line to the probe element.

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